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III族氮化物薄膜生長與測試

III族氮化物薄膜生長與測試

定  價:98 元

        

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  • 作者:王文樑
  • 出版時間:2025/8/1
  • ISBN:9787030826480
  • 出 版 社:科學(xué)出版社
  • 中圖法分類:TB43 
  • 頁碼:
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:
  • 開本:16開
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《Ⅲ族氮化物薄膜生長與測試》聚焦國家半導(dǎo)體戰(zhàn)略,系統(tǒng)論述了寬禁帶半導(dǎo)體核心材料Ⅲ族氮化物的基礎(chǔ)理論、制備技術(shù)與性能評估方法。**篇從晶體結(jié)構(gòu)、物理化學(xué)特性出發(fā),解析材料在光電子與高功率器件中的應(yīng)用機(jī)理;第二篇介紹了化學(xué)/物理氣相沉積技術(shù)原理與工藝優(yōu)化策略;第三篇闡述了光學(xué)、電學(xué)等性能多維度表征方法。同時,《Ⅲ族氮化物薄膜生長與測試》結(jié)合了研究團(tuán)隊創(chuàng)新成果,為學(xué)科發(fā)展和產(chǎn)業(yè)升級注入新動能。

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