本書是本著突出近代真空鍍膜技術(shù)進(jìn)步，注重系統(tǒng)性、強(qiáng)調(diào)實(shí)用性而編著的。全書共11章，內(nèi)容包涵了真空鍍膜中物理基礎(chǔ)，各種蒸發(fā)源與濺射靶的設(shè)計(jì)、特點(diǎn)、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監(jiān)控，真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求等。本書具有權(quán)威性、實(shí)用性和通用性。本書可作為從事真空鍍膜技術(shù)的技術(shù)人員、真空專業(yè)的本科生、研究生教材使

《材料科學(xué)與工程系列：薄膜技術(shù)與薄膜材料》的應(yīng)用范圍極為廣泛，從大規(guī)模集成電路、電子元器件、平板顯示器、信息記錄與存儲、MEMS、傳感器、白光I.ED固體照明、太陽能電池到材料的表面改性等，涉及高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域�！恫牧峡茖W(xué)與工程系列：薄膜技術(shù)與薄膜材料》內(nèi)容包括真空技術(shù)基礎(chǔ)、薄膜制備、微細(xì)加工、薄膜材料及應(yīng)用等4

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本書較為系統(tǒng)、全面地介紹了與薄膜制備技術(shù)相關(guān)的各種基礎(chǔ)知識，涉及了薄膜制備系統(tǒng)、典型的物理制膜與化學(xué)制膜方法、薄膜加工方法，以及常用的薄膜性能表征技術(shù)，同時(shí)緊密結(jié)合當(dāng)前薄膜領(lǐng)域最先進(jìn)的技術(shù)、方法和裝置。原外版書作者長期在薄膜科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域從事研究、開發(fā)和教育工作，有豐富的工作經(jīng)驗(yàn)與廣博的專業(yè)知識。本書自初版以來，已有三